大氣壓射頻均勻輝光放電的條件

2015-03-22 李 森 上海出版?zhèn)髅窖芯吭荷虾3霭嬗∷⒏叩葘?茖W校

  大氣壓放電應用在很多領域時,其放電的均勻性顯得十分重要。本文通過實驗得出影響大氣壓射頻放電的均勻性的條件。實驗中研究的影響因素有介質(zhì)阻擋、放電電壓、放電氣體組成以及放電間隙。實驗采用單反照相機以及ICCD照相機對放電進行拍照,觀察不同參數(shù)放電下的放電模式。通過放電現(xiàn)象發(fā)現(xiàn)對維持大面積均勻輝光放電影響最大的因素是采用介質(zhì)阻擋和放電氣體的組成,影響較小的是放電電壓。放電間隙在可維持放電的間隙范圍內(nèi)對放電模式影響很小。實驗得出,改變這些條件會使均勻輝光放電中出現(xiàn)放電絲,或完全轉(zhuǎn)變?yōu)榻z狀放電甚至熄滅。

  氣體放電是產(chǎn)生等離子體的一種最重要途徑,它在薄膜生長和材料表面改性等方面有廣泛的應用。然而大部分氣體放電都是在低氣壓下進行的,要將等離子體工藝應用于大規(guī)模的生產(chǎn)中,低氣壓等離子體還存在不少致命缺陷:放電必須在封閉的低壓空間中維持,因而設備成本、維護成本以及時間成本很高。顯然,大氣壓下的低溫等離子體更適合工業(yè)生產(chǎn)。為了對材料能夠進行均勻的處理,人們希望獲得均勻的大氣壓等離子體輝光放電,而非絲狀放電。自從日本的Okazak等在1988年報道了在大氣壓條件獲得的惰性氣體的穩(wěn)定輝光放電,各國在這個課題上開展了更多的研究工作。Michael G Kong等對大氣壓射頻介質(zhì)阻擋放電的模式轉(zhuǎn)換和放電機理進行了大量研究工作。國內(nèi)董麗芳等對大氣壓中頻介質(zhì)阻擋放電的斑圖進行了研究,張增輝等對大氣壓介質(zhì)阻擋輝光放電進行了仿真研究。目前,采用射頻介質(zhì)阻擋被認為是獲得穩(wěn)定的大氣壓輝光放電的有效方式,而對大氣壓射頻輝光放電的條件真空技術(shù)網(wǎng)(http://www.jnannai.com/)還沒發(fā)現(xiàn)有人全面地進行總結(jié)。本文從大量的實驗結(jié)果中總結(jié)了影響大氣壓射頻均勻輝光放電形成的因素,實驗中改變的參數(shù)有介質(zhì)的存在、放電氣體成分、放電電壓以及放電間隙。

1、實驗設備

  實驗裝置如圖1所示,采用電容耦合射頻放電系統(tǒng),電極分為銅電極和水電極。下電極銅電極連接射頻電源,面積為100mm×100mm;上電極水電極為注滿自來水的石英盒,內(nèi)置接地銅圈,面積比銅電極略大。上下電極均使用循環(huán)水進行冷卻。文中部分實驗上下電極均使用相同的銅電極。放電介質(zhì)采用石英介質(zhì)(尺寸為140mm×140mm×1mm),根據(jù)實驗需要覆蓋在電極表面。放電的間距使用夾在上下電極邊緣之間的石英片來調(diào)節(jié)。電極的左側(cè)是混氣室,當使用摻雜的氣體放電時,氣體在這里混合,然后經(jīng)篩板均勻進入放電空間。射頻電源頻率為13.56MHz,最大功率2kW。放電的電壓和電流分別由電壓探頭(Tektronix P6015A)和電流探頭(Tektronix 6021AC)獲得,示波器(Tektronix DPO4104)用來采集探頭信號;實驗中照片由單反相機(Nikon D90)以及ICCD照相機(Princeton Instruments公司的PI-MAX2)獲得。

實驗裝置示意圖

圖1 實驗裝置示意圖

2、結(jié)果與分析

  2.1、氬氣放電

  2.1.1、裸電極

  氬氣放電使用的上下電極均為銅電極,無介質(zhì)覆蓋在電極表面。通過調(diào)節(jié)放電功率和改變放電間隙,實驗獲得了裸電極氬氣均勻輝光放電,如圖2(a)所示。但是發(fā)現(xiàn),這種輝光放無法在較大面積和大間距的尺度下維持。首先,在實驗設備條件下,能夠擊穿的最大氣體間隙為1.5mm,并且為輝光放電。若此時增大放電功率,輝光放電會轉(zhuǎn)變?yōu)槿鐖D2(b)所示的收縮的放電通道;若此時不增加放電功率,放電模式也很容易在一段時間后發(fā)生同樣的模式轉(zhuǎn)換,這主要是由于電極溫度上升所造成的。而在可實現(xiàn)輝光放電的間隙范圍內(nèi),更大間隙的等離子體表現(xiàn)出更大的阻抗。

裸電極放電照片

圖2 裸電極放電照片

  因此從實驗結(jié)果可以得出,裸電極可獲得均勻輝光放電,但是對放電功率和電極溫度比較敏感,容易轉(zhuǎn)變?yōu)槭湛s的放電模式。

  2.1.2、介質(zhì)阻擋氬氣放電

  使用射頻介質(zhì)阻擋放電獲得均勻輝光放電的結(jié)果已經(jīng)有報導,本文利用ICCD照相機對放電模式進行更準確的判斷。兩塊電極均使用銅電極,石英片作為介質(zhì)覆蓋在銅電極上。放電間隙定位4.4mm,氬氣的氣流速度為2L/min(標準狀態(tài)),在逐漸增加放電功率至氣體擊穿后,逐漸增加電源功率同時記錄電流電壓值。

  圖3所示為實驗中雙介質(zhì)氬氣放電功率最小和最大時的照片,對應的電壓為550和1070V,可以看出等離子體既沒有發(fā)生收縮,也沒有出現(xiàn)放電絲,一直表現(xiàn)為均勻的輝光放電。這里需要說明的是,在α模式下整個等離子的發(fā)光是均勻的,在γ模式下明顯介質(zhì)表面要更亮,這是由于介質(zhì)表面有大量的二次電子。但是我們同樣認為這是一種均勻放電,因為它對于二維的介質(zhì)表面是均勻一致的;這對于材料的處理不會像絲狀放電一樣產(chǎn)生不一致的影響。不同的放電間隙對實驗的結(jié)果影響較小,更大間隙的等離子體表現(xiàn)出更大的阻抗,且均未出現(xiàn)放電絲。

 大氣壓射頻均勻輝光放電的條件

圖3 氬氣4.4mm介質(zhì)阻擋放電ICCD照片,曝光時間100μs

  單介質(zhì)氬氣放電的情況與雙介質(zhì)卻截然不同,放電照片如圖3(c)和(d)所示,對應的電壓為550和650V。上電極為裸露的銅電極,下電極為覆蓋有石英片的銅電極。從放電的照片可以看出,外加電壓較低時,放電是比較均勻的,沒有放電絲出現(xiàn)。而電壓達到650V后,等離子體中出現(xiàn)了明顯的放電細絲。隨著放電功率的增大,放電細絲的數(shù)量越來越多,放電絲直徑變大。這是輝光放電和絲狀放電共存的一種放電模式。

  從氬氣放電結(jié)果可以得出,介質(zhì)阻擋和電壓是影響放電模式的重要因素,雙介質(zhì)阻擋可以保證放電維持大功率、大面積以及較大間隙的氬氣均勻輝光放電。在單介質(zhì)阻擋放電中,較低的電壓可以維持均勻輝光放電。

  2.2、氬氣摻雜氮氣放電

  2.2.1、雙介質(zhì)放電

  除了電壓和介質(zhì)阻擋外,本文也研究了放電氣體對放電模式的影響,由于空氣是最方便且最廉價的氣體來源,因此實驗在氬氣中摻入空氣中含量最高的氮氣進行研究。為了更清楚觀察放電現(xiàn)象,這里上電極使用水電極,下電極為銅電極。實驗采用4.4mm雙介質(zhì)放電,放電輸入功率固定為400W。實驗開始時,采用氬氣放電。待放電穩(wěn)定后,逐漸增加氮氣流量,同時減少氬氣的流量,而混合氣體的總流量保持2L/min不變。圖4為氮氣的流量為0,50,200和1000mL/min的放電照片。從圖中可以明顯看出,400W 輸入功率下的氬氣放電為均勻輝光放電,當?shù)獨饬髁可仙?0mL/min后,放電面積明顯發(fā)生了收縮,但是放電仍然為輝光放電,沒有出現(xiàn)放電絲。而氮氣的流量繼續(xù)增加到500mL/min時,放電完全轉(zhuǎn)變?yōu)榱私z狀放電。繼續(xù)增加氮氣流量至1000mL/min時,放電仍然為絲狀放電,但是放電絲的數(shù)量大幅度減少,放電絲的顏色也由暗紅色變?yōu)樯钭仙H绻^續(xù)增加氮氣的比例,則放電不能維持。

大氣壓射頻均勻輝光放電的條件

圖4 3.3mm雙介質(zhì)氬氣摻雜氮氣放電照片

  2.2.2、單介質(zhì)放電

  純氬氣放電的實驗得出了單介質(zhì)放電容易出現(xiàn)放電絲的結(jié)論。在氬氣摻雜氮氣單介質(zhì)放電的實驗中,對于氮氣的比例對放電模式的影響也進行了研究,上電極仍為水電極,結(jié)果如圖5所示。放電功率保持為400W 不變,總氣流為2L/min。

  由圖5可以看出,純氬氣的放電很均勻,沒有放電絲。氮氣流量加至50mL/min時明顯地出現(xiàn)了一些放電細絲,但整體上還是均勻的放電。氮氣達到500mL/min時,放電出現(xiàn)了在銅電極表面收縮,在介質(zhì)表面擴展的放電通道。這種放電通道與雙介質(zhì)氬氣摻雜氮氣放電的放電絲,除了尺寸上的區(qū)別外,這種放電通道的位置比較穩(wěn)定,會固定存在于電極的某個位置。而雙介質(zhì)放電中的放電絲穩(wěn)定性比較差。從氮氣流量為500mL/min時的放電照片可以明顯看出有兩種等離子體的存在,一種是在銅電極表面收縮,在介質(zhì)表面擴展的放電通道;另一種就是均勻彌散的等離子體。當?shù)獨獾牧髁刻岣咧?000mL/min時,等離子體的形式完全轉(zhuǎn)變?yōu)橐贿吺湛s,另一邊擴展的放電通道。

大氣壓射頻均勻輝光放電的條件

圖5 3.3mm單介質(zhì)氬氣摻雜氮氣放電照片

  通過對混合氣體中氮氣的比例對放電模式的影響的研究可以得出,在雙介質(zhì)氬氣摻雜氮氣放電中,氮氣比例的提高會使放電面積收縮,放電模式進而發(fā)生改變;氮氣比例較高時放電無法維持。這也是為什么普遍大家都采用惰性氣體來獲得等離子體,如氬氣和氦氣。從單介質(zhì)氬氣摻雜氮氣實驗也可以得出類似的結(jié)論。但從其放電通道可以看出,在裸電極表面放電通道更易收縮,這與之前氬氣放電的結(jié)果也是吻合的。

3、結(jié)論

  通過實驗結(jié)果得出,要獲得大面積、大間隙的大氣壓射頻均勻輝光放電,重要的條件有放電氣體、放電電壓以及介質(zhì)阻擋。裸電極的氬氣放電可以獲得小間隙的均勻輝光放電,但是放電對功率和電極溫度很敏感,很容易轉(zhuǎn)變?yōu)槭湛s的放電模式。采用介質(zhì)阻擋后,可以獲得大間隙的均勻輝光放電。雙介質(zhì)阻擋可以保證放電維持大功率、大面積以及較大間隙的氬氣均勻輝光放電。在單介質(zhì)阻擋放電中,較低的電壓可以維持均勻輝光放電,這說明介質(zhì)可以防止放電絲的形成。最后,通過在氬氣中摻入氮氣,得出使用惰性氣體放電也是獲得均勻輝光放電的重要條件,但摻入少量的氮氣也可以獲得均勻輝光放電。同時,輝光放電和絲狀放電的機理還有待進一步研究。