離子束流和基底溫度對ZrN/TiAlN納米多層膜性能的影響

2020-04-18 真空技術(shù)網(wǎng) 真空技術(shù)網(wǎng)整理

  摘 要:本文利用高真空離子束輔助沉積系統(tǒng)(IBAD),在室溫下制備了ZrN、TiAlN和一系列ZxN/TiAlN納米多層膜,利用XRD、納米力學測試系統(tǒng)和多功能材料表面性能實驗儀,分析了束流和基底溫度對薄膜的微結(jié)構(gòu)和機械性能的影響.結(jié)果表明:大部分多層膜的納米硬度與彈性模量值都高于兩種個體材料硬度的平均值,當輔助束流為5 mA時,多層膜硬度達到30.6 GPa.基底溫度的升高,會顯著降低薄膜的殘余應(yīng)力,但對薄膜的硬度,摩擦系數(shù)沒有明顯影響.

  關(guān)鍵詞:離子束輔助沉積;ZrN/TiAlN納米多層膜;硬度;離子束流;基底溫度

  分類號:O484 文獻標識碼:A

  文章編號:1672-7126(2008)增刊-029-04

Deposition Conditions and Mechanical Properties of ZrN/TiAlN Nanoscaled Multilayered Coatings

Cao Meng  Li Qiang  Yang Ying  Deng Xiangyun  Li Dejun