介紹了老式真空電弧爐VHD 和奧地利英特科(Inteco)特種冶煉技術(shù)公司最近設(shè)計的新型真空電弧精煉爐VAD 系統(tǒng)。新系統(tǒng)在設(shè)備利用率方面和煉鋼質(zhì)量方面，同當(dāng)前廣泛應(yīng)用的LF- VD 爐相比，各項指標(biāo)均超過后者，具有無比的優(yōu)越性。

　　真空電弧精煉脫氣(VHD)技術(shù)早在40 年前就開始用來熔煉合金鋼。為什么今天還要進行研制開發(fā)它呢?真空技術(shù)網(wǎng)(http://www.jnannai.com/)認為這是因為早期的VHD 設(shè)備已經(jīng)不能滿足當(dāng)前航空航天技術(shù)的要求，而且普遍被LF 爐加上VD 爐所代替。奧地利英特科特種冶煉技術(shù)公司最近設(shè)計的新型VAD 系統(tǒng)在設(shè)備簡化方面和煉鋼質(zhì)量方面，均優(yōu)于當(dāng)前廣泛應(yīng)用的LF+VD 爐，而且用1 臺VAD 設(shè)備能夠完成LF 和VD 兩臺爐子的任務(wù)，這是在LF 爐加VD 爐的基礎(chǔ)上又邁上了一個新的臺階。

1、傳統(tǒng)真空電弧精煉脫氣爐

　　傳統(tǒng)的真空電弧精煉脫氣爐(VHD)是美國人A. Finkl & Sons 于1964 年開始開發(fā)的，之后不斷地進行試驗研究，并于1970 年獲得了美國專利。VHD 設(shè)備在世界上廣泛應(yīng)用的年代是從1970 年到1990 年。在那時候，VHD 工藝能夠完全滿足特鋼廠對產(chǎn)品質(zhì)量的要求和處理效果。傳統(tǒng)的真空電弧精煉爐VHD 原理示意圖示于圖1。

圖1 傳統(tǒng)真空電弧精煉爐原理示意圖

　　最近20 年來，為什么特鋼廠對VHD 設(shè)備不感興趣了呢?這是由于40 年前設(shè)計的VHD 設(shè)備已經(jīng)不能滿足現(xiàn)代化熔煉特殊鋼的要求，以及近20 年來， 出現(xiàn)了鋼包精煉爐和真空脫氣裝置(LF+VD)，該種工藝流程目前在國內(nèi)外廣泛應(yīng)用，但是其缺點是電弧加熱和真空脫氣需要在2個設(shè)備中進行，如圖2 所示。

圖2 EAF-LF-VD 冶煉工藝路線

2、VAD 工藝路線和優(yōu)越性

　　奧地利英特科特種冶煉技術(shù)公司最近開發(fā)出將LF 爐和VD 爐合二為一的現(xiàn)代化的新型電弧加熱真空電弧精煉爐(VAD)，以下簡稱VAD設(shè)備。

　　圖3 示出了EAF-VAD 工藝路線和EAF-LF-VD工藝路線對比方框圖。圖中右側(cè)是目前廣泛應(yīng)用的EAF-LF-VD 工藝路線;左側(cè)是英特科特種冶煉技術(shù)公司最近開發(fā)的EAF-VAD 工藝路線。即用一臺VAD 爐子代替兩臺LF-VD 爐子，而且煉出的鋼還優(yōu)于LF+VD 爐的質(zhì)量。

EAF- 電弧爐，LF- 鋼包精煉爐，VD- 真空脫氣裝置，VAD- 新型真空電弧精煉爐，CCM- 連鑄機

圖3 EAF-VAD 工藝路線和EAF-LF-VD 工藝路線對比

　　VAD 能夠提供多種冶金工藝程序。冶金工藝程序的選擇取決于冶金目標(biāo)和設(shè)備的先決條件。VAD 爐的適用范圍為15~200 t。集加熱、脫氣、渣處理和合金調(diào)整都是在真空狀態(tài)下連續(xù)進行的。同蒸汽噴射真空泵相結(jié)合的完全封閉式處理站提供出對環(huán)境完全沒有污染的解決方案。VAD 工藝若同其它爐外冶金工藝相比，在真空狀態(tài)下進行電弧加熱具有以下優(yōu)點：

　　a)低的出鋼溫度，因而鋼包包襯的壽命長;

　　b)在真空狀態(tài)下能夠添加大量合金劑，因而能熔煉高級合金鋼;

　　c)短的出鋼到出鋼時間，因而提高了設(shè)備生產(chǎn)率和降低了生產(chǎn)成本;

　　d) 在真空狀態(tài)下進行脫氣處理，能夠達到最低的氣體含量;

　　e)在真空電弧加熱狀態(tài)下，只要需要，鋼水在鋼包中，可停留任意長的時間，比如，如果下級連鑄機出故障，等待任意長的時間都沒有問題。

3、VAD 工藝概述

　　液態(tài)鋼水通過前級電弧爐出鋼槽，允許接觸空氣以500~800 mm 凈空距離，倒進鋼包中。然后，車間吊車將該鋼包運送到真空容器中。該真空容器由升降架子上的3 個液壓缸支撐。再把真空容器蓋放到真空容器連接法蘭上。在真空容器蓋的中央部位安裝有3 個被動態(tài)密封的可以升降的電極，在真空容器內(nèi)依靠多級蒸汽噴射真空泵抽真空(采用機械真空泵也可以)。在真空脫氣處理時，惰性氣體(比如氬氣或氮氣)通過鋼包底吹入熔池中，以保證液態(tài)金屬的攪拌、循環(huán)。3根電極被調(diào)整在鋼液上方對于燃弧的合適位置，電極的電氣回路是閉合回路。

　　石墨電極被安裝在真空密封伸縮管裝置中。電極和熔池表面之間的距離通常不需要經(jīng)常調(diào)整，這是由于在真空狀態(tài)下，電弧長度能在長時間內(nèi)保持不變。電極既不接觸鋼液面或渣面，也不像在大氣中易被氧化，所以大大減少了電極消耗。在真空室內(nèi)，電弧的上方有一層屏蔽層，以防止電弧熱量輻射爐蓋，以及為了減少熱損失。加到熔池表面的電弧能量將爐渣吹到旁邊。這樣一來，氣體很容易從熔池中逸出。精煉處理是連續(xù)的，一直到達到冶金要求及達到希望的氣體含量為止。進一步開發(fā)真空電弧加熱系統(tǒng)是鋼包精煉的另一個重要步驟。在真空狀態(tài)下可以連續(xù)行加熱，不受時間限制，這就使得鋼廠能充分利用真空冶煉所提供的所有優(yōu)點。

4、VAD 設(shè)備的設(shè)計和制造

　　VAD 設(shè)備的設(shè)計受到許多因素的制約，因此最重要問題是周圍生產(chǎn)環(huán)境、設(shè)備布置、材料物流和設(shè)備利用率等。首先，新設(shè)備要布置到已有車間內(nèi)，因此其鋼包尺寸、車間立柱跨距、天車高度等都是限制VAD 設(shè)備布置的主要因素。第二，該設(shè)備要與原有設(shè)備的工序和物流輸送邏輯相適應(yīng)，即在設(shè)計該設(shè)備時，需了解上級工序操作循環(huán)時間和下級工序操作循環(huán)時間。另外，在設(shè)備設(shè)計時還要考慮設(shè)備的利用率，即機械設(shè)備和電氣設(shè)備要得到充分利用。

4.1、真空容器運輸系統(tǒng)

　　真空容器運輸系統(tǒng)適用于鋼水處理站位于車間天車范圍之外的場合。車間天車將鋼包放到真空容器內(nèi)的鋼包支架上。然后真空容器移動車被放到真空容器蓋的下方，真空容器蓋下降到裝有真空密封的真空容器法蘭上。真空容器移動車的設(shè)計需要同鋼包尺寸相適應(yīng)。

6、結(jié)論

　　(1)奧地利英特科特種冶煉技術(shù)公司最近推出了技術(shù)- 經(jīng)濟指標(biāo)高超的VAD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)在煉鋼質(zhì)量、冶金效果、各項指標(biāo)均優(yōu)于目國內(nèi)外廣泛應(yīng)用的LF-VD 爐。

　　(2)綜上所述，新型VAD 系統(tǒng)，從設(shè)備創(chuàng)新的角度來看，具有重大技術(shù)突破，具有劃時代意義。因此可以說，將來的發(fā)展趨勢是完全有可能用一臺新型VAD 爐代替兩臺LF 爐和VD 爐。