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真空鍍膜

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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

Ti-Al-Si-N涂層界面微結構研究

采用多元等離子體浸沒離子注入與沉積裝置制備Ti-Al-Si-N涂層，借助X射線衍射儀、X射線光電子能譜、透射電子顯微鏡、納米探針和原子力顯微鏡等系統研究涂層界面微結構與力學性能。
電弧離子鍍與磁控濺射復合技術制備Ti/TiN/TiAlN復合涂層的組織結構與力學性能

采用磁控濺射和電弧離子鍍技術，在高速鋼基體上制備了Ti/TiN/TiAlN復合涂層。采用掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀、顯微硬度計、微米劃痕儀等方法研究了鍍覆條件對復合涂層的形貌、組織結構和力學性能的影響。
鈦表面等離子體氧化及其對細胞粘附增殖的影響

本試驗在噴砂酸蝕工藝處理獲得的鈦片試樣表面進行等離子體氧化，分析等離子體氧化后鈦試樣的表面形貌、化學組成、價鍵狀態、親水性和成骨細胞粘附增殖的情況。
原子層沉積制備VO2薄膜及特性研究

本文旨在利用ALD 技術，以VO(acac)2和O2分別作為釩源和氧源，以玻璃為基底，在實現飽和吸附的前提下，通過改變沉積條件以及退火條件來研究不同反應溫度及退火條件對VO2薄膜結構及性能的影響，為后續VO2薄膜進一步研
ECR等離子體刻蝕增強機械拋光CVD金剛石

本文采用ECR等離子體刻蝕與機械拋光相結合的方法拋光CVD金剛石，并與單純的機械拋光CVD金剛石相比較，發現在機械拋光中增加ECR等離子體刻蝕能明顯增強機械拋光效率，特別是在機械拋光前期，組合拋光效率是機械拋光效
濺射氣壓對Li-W共摻雜ZnO薄膜性能的影響

本文主要在不同濺射氣壓制備得到Li-W共摻雜薄膜(LWZO) ，分析了濺射氣壓對LWZO薄膜的結晶性能、表面形貌、光學性能的影響以及電學性能的影響。
銀修飾氮摻雜TiO2薄膜的制備及光催化性能研究

本文采用磁控濺射法制備不同Ag含量的氮摻雜TiO2薄膜，并分析其形貌結構、表面元素化學態、光學性能以及可見光催化活性，研究Ag的含量對薄膜性能的影響。
行星周轉鍍膜裝置設計

針對現有的蒸鍍圓柱形腔體杜瓦鍍膜工藝存在工藝繁瑣、膜層不均勻等問題，設計了行星周轉鍍膜裝置。
電子束蒸發TiO2膜通氧量對薄膜光學性能的影響

文章研究了離子束輔助電子束蒸發鍍制TiO2薄膜的通氧量對薄膜性能的影響，獲得最優的鍍制工藝以及最好的薄膜光學特性。
高溫真空鍍膜夾具的設計

對于要求整面鍍膜的大規格玻璃面板，鍍膜環境為高溫的情況下，采用傳統夾子夾持的方法，不能滿足大規格玻璃整面鍍膜的需要。提出一種新的思路，并設計了新夾具解決此問題。
多層HfO2/Al2O3薄膜基電荷陷阱存儲器件的存儲特性研究

本文利用多層HfO2/Al2O3薄膜作為存儲層，借助脈沖激光和原子層沉積系統制備電荷陷阱存儲器件，并對器件的存儲特性進行了系統分析。
等離子噴涂涂層微觀結構的蒙特卡羅模擬

本文使用蒙特卡羅方法建立隨機模型預測等離子噴涂涂層顯微結構及其孔隙率和粗糙度，并研究工藝參數對涂層孔隙率和表面粗糙度的影響。
氬氣/空氣輝光放電對聚乙烯薄膜的表面改性研究

利用氬氣/空氣混合氣體輝光放電對聚乙烯(PE) 材料表面改性。
預熱處理前驅體后硫化溫度對Cu2ZnSnS4薄膜性能影響的研究

本文在優化過的預熱處理條件的基礎上研究了不同硫化溫度對于制備的CZTS薄膜性能的影響。
DC-HCPCVD法低溫低壓下納米金剛石膜的制備及生長特性研究

本文在CH4/H2氣氛下，在低溫低壓下低成本生長納米金剛石膜，研究所得納米金剛石膜的組成結構特點，擴展直流熱陰極PCVD法納米金剛石膜制備工藝。
倒圓錐面基底蒸發鍍膜均勻性理論分析

通過計算得出了蒸發源位于倒圓錐面正下方外部鍍膜時錐面上各點的膜厚方程，并對整個錐面上膜厚均勻性進行了理論分析。
FePtAg-C納米顆粒薄膜的制備及表征

利用磁控濺射法在熱氧化硅基片上成功制成了FePtAg-C顆粒薄膜(其中有MgO籽層)，并利用XRD、SQUID和TEM分別表征其織構、磁性和微觀形貌。
Si(111)基片上Mg2Si薄膜的脈沖激光沉積

本文采用PLD技術，在Si(111) 基片上制備Mg2Si薄膜，研究PLD工藝參數對Mg2Si薄膜制備的影響，通過工藝優化制備得到純相、結構均勻、表面平整的Mg2Si薄膜。
NaCl結構VC薄膜生長過程中原子遷移的第一性原理研究

本文采用第一原理計算的方法研究了C和V原子在NaCl 結構VC 表面和晶體內部(111) 面上的遷移條件，并在此基礎上討論了工藝參數對薄膜生長的影響。
MgxZn1-xO薄膜的紅外光譜及其表面浸潤性

本文采用溶膠-凝膠法制備了不同Mg 含量MgxZn1-xO薄膜，研究了Mg 含量對MgxZn1-xO薄膜微結構和表面形貌的影響。